有的人又把膜厚儀稱為膜厚測(cè)量?jī)x，主要分為兩種類(lèi)型，一種類(lèi)型是手持式與臺(tái)式兩種，手持式的膜厚測(cè)量?jī)x又有好幾種類(lèi)型，比如說(shuō)電渦流鍍層測(cè)厚儀，熒光X射線鍍層膜厚測(cè)量?jī)x。手持式的測(cè)量?jī)x采用的測(cè)量原理是利用探頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆蓋二流入鐵磁基體磁通的大小。對(duì)于，膜厚儀很多人對(duì)它測(cè)量原理是非常感興趣的，我們一起來(lái)了解一下它的測(cè)量原理。
我們已經(jīng)學(xué)習(xí)了手持膜厚儀的測(cè)量原理，接著我們?cè)賮?lái)學(xué)習(xí)一下臺(tái)式測(cè)厚儀的測(cè)量原理。一些技術(shù)人員告訴我們，臺(tái)式的熒光X射線膜厚儀，是一種通過(guò)一次X射線穿透金屬元素樣品的而產(chǎn)生的低能量的光子，這種低能量的光子又被稱為二次熒光?？梢酝ㄟ^(guò)高級(jí)計(jì)算機(jī)對(duì)這種能量進(jìn)行計(jì)算，這種能量計(jì)算出來(lái)的值可以對(duì)厚度進(jìn)行一定的衡量。
在膜厚儀中，比較流行的測(cè)量原理就是電渦流測(cè)量原理，我們一起來(lái)對(duì)電渦流測(cè)量原理進(jìn)行比較詳盡的學(xué)習(xí)，高頻的交流信號(hào)一般會(huì)在側(cè)頭線圈中產(chǎn)生一定的電磁場(chǎng)，當(dāng)測(cè)試的探頭靠近導(dǎo)體的時(shí)候，就會(huì)在它的附加產(chǎn)生渦流。如果測(cè)試探頭離導(dǎo)體的基體越近，它的渦流就會(huì)越大，反射阻抗肯定也會(huì)更大。事實(shí)上，這是一個(gè)反饋?zhàn)饔玫倪^(guò)程，這個(gè)過(guò)程中表征了測(cè)試探頭與導(dǎo)電基體之間距離的大小，換句話說(shuō)，這就是導(dǎo)體導(dǎo)電基體上非導(dǎo)電覆層厚度的大小。
采用電渦流測(cè)試的原理，原則上需要對(duì)導(dǎo)體上的非導(dǎo)電體覆蓋層均可以進(jìn)行測(cè)量，技術(shù)人員告訴我們，覆層材料是有一定的導(dǎo)電性的，通過(guò)校準(zhǔn)也是可以同時(shí)進(jìn)行測(cè)量的，不過(guò)在這其中，有一個(gè)比較明顯的要求就是兩個(gè)的導(dǎo)電率最好是相差3到5倍左右。
這就是跟朋友們介紹分享的膜厚儀一些測(cè)量基本原理，本文主要介紹了手持式膜厚測(cè)試儀的測(cè)量原理、臺(tái)式膜厚測(cè)試儀的測(cè)量原理，及其在膜厚測(cè)試儀比較流行的測(cè)量原理，這種測(cè)量原理就是電渦流測(cè)量原理。在測(cè)量原理中，鋼鐵經(jīng)常作為基體的導(dǎo)電體。
