菲希爾 X-RAY的詳細資料:
品牌 | Helmut Fischer/德國菲希爾 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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應用領域 | 電子,交通,冶金,航天,汽車 |
菲希爾 X-RAY
一一FISCHERSCOPE® X-RAY 系列產品X射線熒光鍍層測厚儀、材料分析儀
從1953年至今,菲希爾公司不斷地在涂鍍層測厚、材料分析、微硬度測量和材料測試領域發(fā)展出創(chuàng)新型的測量技術。如今,菲希爾的測量技術已在世界各地得到應用,滿足客戶對儀器準確度、精度和可靠性的要求。目前,有超過10000臺X射線儀器投入使用,而FISCHERSCOPE® X-RAY品牌也已成為強大,可靠和耐用的X射線熒光測量設備的代名詞。
X射線熒光分析法 (XRFA):
能量散射X射線熒光光譜法(EDXRF)作為鍍層厚度測量和材料分析的方法,可用來定量和定性分析樣品的元素組成,也可用于鍍層和鍍層系統(tǒng)的厚度測量。無論是在實驗室還是工業(yè)生產環(huán)境中,這一方法都能*勝任,并還可以與現(xiàn)代化設備一起發(fā)揮作用。
X射線熒光法(XRFA)的優(yōu)點:
- 快速無損的鍍層厚度測量(單層或多鍍層)
- 分析固態(tài),粉末或液態(tài)樣品
- 有害物痕量分析
- 高精度和準確度
- 十分廣泛的應用
- 準確測量基材是磁性和導電的材料
- 樣品制備非常簡單
- 測試方法安全,沒有使用危害環(huán)境的化學制品
- 無耗品,物超所值
FISCHERSCOPE XUL | FISCHERSCOPE XULM | ||
一款適合電鍍廠測量鍍層厚度的便宜耐用的儀器。 它配備了一個固定的準直器和濾片,射線管出射 點稍大,非常適合測量點在1mm以上的應用。低 能射線元件激發(fā)效率較低;但是對于標準的測量典 型電鍍層厚度的應用,如Cr、Ni、Cu,沒有任何問題。 | 多用途的鍍層厚度測量儀。無論是薄的還是厚的鍍層(如50 nm Au或100 μm Sn)都通過選擇好的高壓濾片組合很好地測量。微聚焦管可以達到在很短的測量距離內小到100 μm的測量點大小。高達數kcps的計數率可以被比例接收器接收到。 | ||
FISCHERSCOPE XAN 110/120 | FISCHERSCOPE XAN | ||
專門為分析金合金開發(fā)的劃算的儀器。比較 XAN而言,只有一個固定的準直器和固定的 濾片,特別適合貴金屬分析。XAN 110配備 比例接收器,適于幾種合金元素的簡單分析。 XAN 120配備了半導體接收器,更可以應用于 多元素的復雜分析。 | 分析儀器,測量方向從下到上。用途廣泛。測量室全封閉,可以使用大準直器分析,高計數率也可以被硅漂移探測器處理。激發(fā)和輻射檢測方式與XDV-SDD相同。它是金合金分析和塑料中有害物質痕量分析的理想儀器。 | ||
FISCHERSCOPE XDL | FISCHERSCOPE XDLM | ||
適合鍍層厚度測量的耐用儀器,即使大測量距 離也可以測量(DCM,范圍0-80mm)。配 備一個固定的準直器和固定的濾片。適合測量 點在1mm以上的應用;跟XUL類似??蛇x用自 動測量的可編程工作臺。 | 比XDL適用面更廣,配備微聚焦管,4個可切換的準直器和3個基本濾片。測量頭 | ||
FISCHERSCOPE XDAL | FISCHERSCOPE XDV-SDD | ||
與XDLM類似但配備了半導體接收器。這樣就可 能可以分析元素和測量超薄鍍層(基于良好的信 噪比)。因為信號強度略低,不太適合測量較小的結構。 | 適合于全部應用的機型。根據測量點大小和光譜組成,激發(fā)方式靈活多樣。配備了硅漂移接收器,即使強度高達>100kcps的信號也可以在不損失分辨率的情況下處理 | ||
FISCHERSCOPE XDV-μ | FISCHERSCOPE | ||
于微觀分析的測量儀器。根據X射線光學部件 的不同,可以分析小到100μm或更小的結構。強 度很高所以精度也非常好。即使很薄的鍍層,測量 不確定性小于1nm也是可能的。僅適于測量空白或 接近空白的樣品。 | 具備綜合測量能力的通用機型。與XDV-XDD相當,但另外配備了可抽真空的測量室,這樣就使得分析從原子序數Z=11(Na)開始的輕元素成為可能。高精度的馬達驅動的XYZ平臺和視頻攝像頭可以準確定位樣品位置和測量細小部件 |
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