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X-RAY臺(tái)式測(cè)厚儀XDL / XDLM / XDAL

X-RAY臺(tái)式測(cè)厚儀XDL / XDLM / XDAL

更新時(shí)間:2024-09-27
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X-RAY臺(tái)式測(cè)厚儀XDL / XDLM / XDAL
XDL / XDLM / XDAL
憑借電機(jī)驅(qū)動(dòng)(可選)與自上而下的測(cè)量方向,XDL® 系列測(cè)量?jī)x器能夠進(jìn)行自動(dòng)化的批量測(cè)試。提供 X 射線源、濾波器、準(zhǔn)直器以及探測(cè)器不同組合的多種型號(hào),從而能夠根據(jù)不同的測(cè)量需求選擇適合的 X 射線儀器

X-RAY臺(tái)式測(cè)厚儀XDL / XDLM / XDAL的詳細(xì)資料:

品牌Helmut Fischer/德國(guó)菲希爾價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別進(jìn)口應(yīng)用領(lǐng)域電子,交通,冶金,航天,汽車

X-RAY臺(tái)式測(cè)厚儀XDL / XDLM / XDAL

X-RAY臺(tái)式測(cè)厚儀XDL / XDLM / XDAL

 

特性:

  • X 射線熒光儀器可配備多種硬件組合,可完成各種測(cè)量任務(wù)
  • 由于測(cè)量距離可以調(diào)節(jié)(大可達(dá) 80 mm),適用于測(cè)試已布元器件的電路板或腔體結(jié)構(gòu)的部件
  • 通過(guò)可編程 XY 工作臺(tái)與 Z 軸(可選)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化的批量測(cè)試
  • 使用具有高能量分辨率的硅漂移探測(cè)器,非常適用于測(cè)量超薄鍍層(XDAL 設(shè)備)

應(yīng)用:

鍍層厚度測(cè)量

  • 大型電路板與柔性電路板上的鍍層測(cè)量
  • 電路板上較薄的導(dǎo)電層和/或隔離層
  • 復(fù)雜幾何形狀產(chǎn)品上的鍍層
  • 鉻鍍層,如經(jīng)過(guò)裝飾性鍍鉻處理的塑料制品
  • 氮化鉻 (CrN)、氮化鈦 (TiN) 或氮碳化鈦 (TiCN) 等硬質(zhì)涂層厚度測(cè)量

材料分析

  • 電鍍槽液分析
  • 電子和半導(dǎo)體行業(yè)中的功能性鍍層分析

 

公司由Helmut Fischer 博士于1953 年成立,自2008 年起由德國(guó)辛德芬根和瑞士休倫堡的 Helmut Fischer 基金會(huì)共同擁有。HELMUT FISCHER Holding AG 涂鍍層測(cè)厚、材料分析、微硬度測(cè)試和材料測(cè)試領(lǐng)域可以為您提供比較良好的解決方案。

Helmut Fischer主要產(chǎn)品:Helmut Fischer測(cè)試樣片、Helmut Fischer涂層測(cè)厚儀、Helmut Fischer X射線熒光測(cè)量?jī)x、Helmut Fischer微硬度測(cè)試儀、Helmut Fischer鐵素體儀、Helmut Fischer氧化膜密閉性測(cè)試儀、Helmut Fischer電導(dǎo)率測(cè)試儀等。


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